세프라텍 평막 제조설비 개요
세프라텍 평막 제조설비는 도포용액 (dope solution) 제조를 위한 고압반응기 (autoclave tank), 도포용액이 캐스팅되는 지지체 공급기 (unwinder of support layer), 코팅기 (casting device), 가습 챔버 (humidity chamber), 응공조, 추출조, 건조기, 권취기 등으로 구성되어 있습니다. 제조되는 평막의 넓이 표준은 12인치, 24인치, 42인치이지만, 고객맞춤 형태의 설계 또한 가능합니다. PLC 시스템을 채택하여 도포 두께 및 속도 등 도포공정을 정밀하게 제어합니다
VIPS (증기유도상전이) 공정에 의한 막제조시 다공성 구조 형성을 정밀 제어하기 위해서 습도 및 온도를 제어할 수 있는 챔버를 옵션으로 선택할 수 있습니다.
평막 제조설비를 간략히 설명하면 아래와 같습니다.
정확한 두께 조정
일정한 캐스팅 속도를 유지하기 위한 자동 권취 속도 조절
캐스팅 속도 조절
간편한 운전 및 유지보수
세프라텍은 제조 변수의 변화에 따라 빠르고 정확한 결과를 얻을 수 있도록 설계된 R&D용 분리막 제조 설비를 제공하고 있습니다.
평막 제조 설비를 이용하여 제조 가능한 분리막은 아래와 같습니다.
정밀여과 분리막/한외여과 분리막
나노여과 분리막/역삼투 분리막
투과증발 분리막/증기투과 분리막
기체 분리용 분리막
세프라텍 평막 도포기 및 생산 라인
평막도포기 (FS-101)
부직포 혹은 PET file위에 연속적 도포
도포 폭 : 6 인치
구성 장치 : 도포용액 제조를 위한 Autoclave 탱크, 도포용액 이송을 위한 기어펌프, 도포를 위한 슬롯다이, 캐스팅 롤, 응고조, 장력조절기 및 도포 속도 조절기, 권취기, PLC
도포공정 : NIPS (비용매유도상전이) 공정
도포온도 : RT~80 ℃
도포속도 : 0.5 ~ 10 m/min
도포두께 : 20 ~ 300 ㎛
평막도포기 (FS-102)
부직포 혹은 PET film위에 연속적 도포
도포 폭 : 12 인치
구성 장치 : 도포용액 제조를 위한 Autoclave 탱크, 도포용액 이송을 위한 기어펌프, 도포를 위한 슬롯다이, 캐스팅 롤, 응고조, 장력조절기 및 도포 속도 조절기, 권취기 및 수조, PLC
도포공정 : NIPS (비용매유도상전이) 공정
도포온도: RT~80 ℃
도포속도 : 0.5 ~ 10 m/min
도포두께 : 20 ~ 300 ㎛
평막도포기 (FS-103)
부직포 혹은 PET film위에 연속적 도포
도포 폭 : 12 인치
구성 장치 : 도포용액 제조를 위한 Autoclave 탱크, 도포용액 이송을 위한 기어펌프, 도포를 위한 슬롯다이, 캐스팅 롤, 온습도챔버, 응고조, 장력조절기 및 도포 속도 조절기, 권취기 및 수조, PLC
도포공정 : NIPS, VIPS공정
도포온도: RT~80 ℃
도포속도 : 0.5 ~ 10 m/min
도포두께 : 20 ~ 300 ㎛
평막도포기 FS-103-VIPS
대부분 구성 요소 및 사양은 FS-103과 유사함, 단 온습도 챔버의 크기가 커서 VIPS공정에 의한 막제조에 유리함
도포 폭 : 6 인치
온습도 챔버
온도 : RT ~ 60 ℃
습도 : RH 10 ~ 90 %
도포공정: NIPS, VIPS공정
평막 생산라인 (FS-201)
부직포 혹은 PET film위에 연속적 도포
도포 폭 : 12 혹은 24인치
구성 장치 : 도포용액 제조를 위한 Autoclave 탱크, 도포용액 이송을 위한 기어펌프, 도포를 위한 슬롯다이, 캐스팅 롤, 온습도챔버, 응고조, 장력조절기 및 도포 속도 조절기, 건조기, 권취기 및 수조, EPC (Edge Position Controller), PLC
도포공정 : NIPS, VIPS공정
도포온도 : RT~80 ℃
도포속도 : 0.5 ~ 15 m/min
도포두께 : 20 ~ 300 ㎛
평막 생산라인 (FS-202)
부직포 위에 연속적 도포 (복합막 제조)
도포 폭 : 40인치
구성 장치 : 도포용액 제조를 위한 Autoclave 탱크, 도포용액 이송을 위한 기어펌프,
도포를 위한 슬롯다이, 캐스팅 롤, 온습도챔버, 응고조, 장력조절기 및 도포 속도 조절기, 권취기, EPC (Edge Position Controller), PLC
도포공정 : NIPS, VIPS공정
도포온도 : RT~80 ℃
도포속도 : 0.5 ~ 15 m/min
도포두께 : 20 ~ 300 ㎛
ADDRESS
TEL
FAX
